HOME > 口頭発表 > 書誌詳細負イオン注入により作製したCu微粒子分散材料の非線形高速光学応答(Nonlinear ultrafast response of Cu particles despersed isolators fabricated by negative ion implantaion)武田 良彦, Thi Thi Lay, 梅田直樹, 李致圭, 岸本 直樹, Thi Thi Lay, 梅田直樹, 李致圭. 1999年秋季第60回応用物理学会学術講演会. 1999年09月01日-1999年09月04日.NIMS著者武田 良彦Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-18 01:45:53 +0900 更新時刻: 2017-07-10 17:57:54 +0900