Role of Oxidant Gas for Atomic Layer Deposition of HfxZr1−xO2 Thin Films on Ferroelectricity of Metal-Ferroelectric-Metal Capacitors
245th ECS Meeting. 2024年05月26日-2024年05月30日. 招待講演
NIMS著者
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作成時刻: 2026-06-18 03:06:26 +0900 更新時刻: 2026-06-18 03:06:26 +0900