酸化物半導体デバイスにおける原子層堆積技術の最前線
(The frontline of atomic layer deposition technique for oxide semiconductor devices)
2023年 第70回応用物理学会春季学術講演会. 2023年03月15日-2023年03月18日. 招待講演
NIMS著者
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作成時刻: 2023-04-10 17:34:47 +0900更新時刻: 2024-01-09 03:08:40 +0900