HOME > 口頭発表 > 書誌詳細A High-Current Negative-Ion Implanter and its Application for Nanocrystal Fabrication in Insulators(大電流負イオン注入装置およびその絶縁体中ナノ結晶生成への応用)KISHIMOTO, Naoki, TAKEDA, Yoshihiko, V.T.Gritsyna, 岩本英司, 斎藤鉄哉, V.T.Gritsyna, 岩本英司, 斎藤鉄哉. 第12回 イオン注入工学国際会議、12th Intern. Conf. On Ion Impla. 1998-06-22.NIMS著者武田 良彦Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 03:22:40 +0900 更新時刻: 2023-04-09 15:08:57 +0900