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スパッタリングによって作製したTi-Ni形状記憶薄膜の応力-歪曲線.
(Stress-Strain Curves of Ti-Ni Shape Memory Films Formed by Sputtering.)

石田 章, 武井厚, 笠原和男, 宮崎修一, 武井厚, 笠原和男, 宮崎修一.
表面技術協会. 1993年03月17日-1993年03月19日.

NIMS著者


    Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


      作成時刻: 2017-02-14 11:32:40 +0900 更新時刻: 2018-05-21 17:51:37 +0900

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