Higher-k(k>50)な準安定HfO2膜の簡便でスローなマルテンサイト変化
(Instant and Slow Martensitic Transformation of Higher-k (k>50) Metastable HfO2 Films)
The Sixth Int. Symposium on Control of Semiconductor Interface. 2013.
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2017-02-14 11:37:56 +0900更新時刻: 2017-07-10 21:35:52 +0900