Higher-k(k>50)な準安定HfO2膜の簡便でスローなマルテンサイト変化
(Instant and Slow Martensitic Transformation of Higher-k (k>50) Metastable HfO2 Films)
The Sixth Int. Symposium on Control of Semiconductor Interface. 2013年06月05日-2013年06月07日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-14 11:37:56 +0900 更新時刻: 2017-07-10 21:35:52 +0900