HOME > 口頭発表 > 書誌詳細チョクラルスキーシリコン中の原子空孔の形成エネルギー(Formation energy of vacancies in Cz Si)末澤正志, 深田 直樹, ジャン ヴァンヘルモント, 米永一郎. 秋季第72回応用物理学会学術講演会. 2011年08月29日-2011年09月02日.NIMS著者深田 直樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 11:34:53 +0900 更新時刻: 2017-07-10 21:08:44 +0900