SAMURAI - NIMS Researchers Database

HOME > 口頭発表 > 詳細

水素ラジカルによるSi生成
(Si production by using H-radical effect)

著者角谷 正友.
会議名第56回マテリアルズ・テーラリング研究会
発表年2010
言語Japanese

▲ページトップへ移動