HOME > Presentation > Detail電子線誘起蒸着によりSi清浄表面上に作製したFeナノドット及びFeシリサイドナノロッド田中 美代子, CHU Fengmin, 下条 雅幸, 竹口 雅樹, 三石 和貴, 古屋 一夫. 日本顕微鏡学会第61回学術講演会. June 01, 2005-June 03, 2005.NIMS author(s)TANAKA, MiyokoTAKEGUCHI, MasakiMITSUISHI, KazutakaFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-02-14 11:07:22 +0900 Updated at: 2017-07-10 19:18:36 +0900