Impact of Cation Surface Termination on the Electrical Characteristics of HfO2/InGaAs(100) MOS Capacitors
2011 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE . 2011年01月20日-2011年01月21日.
NIMS著者
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作成時刻: 2022-09-05 12:53:17 +0900更新時刻: 2022-09-05 12:53:17 +0900