HOME > 口頭発表 > 書誌詳細先端的デバイス応用のためのSiGeの新規結晶化技術(Novel Crystallization Techniques of SiGe for Advanced Device Applications)深田 直樹, 神永 惇, ダッタ ムリナール, 都甲薫, 沼田涼, 末益崇. 2013 Tsukuba Nanotechnology Symposium (TNS’13). 2013. 招待講演NIMS著者深田 直樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 04:10:27 +0900更新時刻: 2024-03-05 11:44:38 +0900