ラジカル酸窒化中の表面応力変動
(The change of surface stress during radical oxidation and following nitridation)
極薄シリコン酸化膜の形成、評価、信頼性. 2002年01月25日-2002年01月26日.
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2017-02-18 02:30:09 +0900 更新時刻: 2018-05-30 18:49:38 +0900