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High-k/poly Si ゲートのフェルミレベルピニングの起源
(Origin of Fermi level pinning of High-k/poly Si gate interfaces)

白石賢二, 山田啓作, 鳥居和功, 赤坂泰志, 中島 清美, 今野充, 知京 豊裕, 有門径敏.
2004年秋期第65回応用物理学会学術講演会. 2004.

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    作成時刻: 2017-01-08 03:32:34 +0900更新時刻: 2017-07-10 19:05:35 +0900

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