Atomic Layer Deposition of High-Quality SnO Thin Films Using Sn(EtCp) Precursor

HOME > 口頭発表 > 書誌詳細

Fumikazu Mizutani, Nobutaka Takahashi,, SAWADA, Tomomi, NABATAME, Toshihide.

The AVS 25th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD/ALE 2025). 2025年06月22日-2025年06月25日.

作成時刻: 2025-07-02 03:10:35 +0900 更新時刻: 2025-07-02 03:10:35 +0900