HOME > 口頭発表 > 書誌詳細反応性RFスパッタリングによる窒素ドープSiナノ結晶の作製(Fabrication of nitrogen-doped silicon nanoparticles by reactive RF sputtering)Shun Ito, Kenji Hirakuri, 佐藤 慶介, 深田 直樹. E-MRS 2012 FALL MEETING. 2012.NIMS著者深田 直樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 04:06:17 +0900更新時刻: 2017-07-10 21:28:34 +0900