HOME > Presentation > Detail低酸素GaNスパッタリングターゲットを用いた高結晶性GaNの作製と評価(Fabrication and characterization of high quality sputtered GaN film by low oxygen GaN target)末本 祐也, 上岡 義弘, 召田 雅実, サン リウエン, 長田 貴弘. 第81回 応用物理学会 秋季学術講演会. September 08, 2020-September 11, 2020.NIMS author(s)NAGATA, TakahiroFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2020-12-09 03:00:18 +0900 Updated at: 2020-12-09 03:00:18 +0900