HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Ge/Siコアシェルナノワイヤの成長および不純物ドーピング制御(Control of growth and impurity doping in Ge/Si core-shell nanowires)深田 直樹. 9th Int. Symp. on Advanced Plasma Science and Its Application. 2017. 招待講演NIMS著者深田 直樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 11:36:59 +0900更新時刻: 2024-03-05 11:46:33 +0900