シリコンの極薄酸化膜の低温成長と特性
(Low temperature ultra thin exide growth and its film properties)
表面反応シンポジウム. 1997年11月20日-1997年11月21日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 03:41:33 +0900 更新時刻: 2017-07-10 17:45:43 +0900