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HfSiOxゲート AlGaN/GaN MOS-HEMT の電気的特性評価
(Electrical characteristics of HfSiOx-gate AlGaN/GaN MOS-HEMT)

越智 亮太, 前田 瑛里香, 生田目 俊秀, 塩崎 宏司, 橋詰 保.
第67回応用物理学会春季学術講演会. 2020年03月12日-2020年03月15日.

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    作成時刻: 2020-09-26 03:00:22 +0900更新時刻: 2020-09-26 03:00:22 +0900

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