The Origin of the Fermi level pinning for Hf-based gate stack structures studied by operando hard x-ray photoelectron spectroscopy
The 11th International Conference on Hard X-ray Photoelectron Spectroscopy (HAXPES 2026). 2026年04月13日-2026年04月17日.
NIMS著者
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作成時刻: 2026-06-10 03:07:50 +0900 更新時刻: 2026-06-10 03:07:50 +0900