Si基板上への斜方晶エピタキシャルHfO2基薄膜の作製
(Growth of epitaxial orthorhombic HfO2-based films on Si substrate)
第76回応用物理学会秋季学術講演会. 2015.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-14 11:26:38 +0900更新時刻: 2017-07-10 22:15:45 +0900