SAMURAI - NIMS Researchers Database

NIMS Awardシンポジウム2026

HOME > 口頭発表 > 書誌詳細

高速偏光解析によるSi表面酸化超薄膜成長速度の基板結晶方向依存.
(Crystal Orientation Dependence of Ultra Thin Oxie Film Growth on Si-Surface by a Rapid Ellipsometry.)

黒木, 北島 正弘, 中村一隆, 河辺隆也, 黒木, 中村一隆, 河辺隆也.
日本物理学会. 1993年10月12日-1993年10月15日.

NIMS著者


    Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


      作成時刻: 2017-02-14 11:25:24 +0900 更新時刻: 2017-07-10 17:25:18 +0900

      ▲ページトップへ移動