Nitride film Growth by Near-Atmospheric Nitrogen Plasma-Assisted Chemical Vapor
(窒素大気圧プラズマＣＶＤによる窒化物薄膜成長)
第19回日本MRS学術シンポジウム. 2009年12月07日-2009年12月09日. 招待講演
NIMS著者
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作成時刻: 2022-09-05 12:26:50 +0900更新時刻: 2024-03-05 11:42:42 +0900