HOME > 口頭発表 > 書誌詳細シリコンナノワイヤ磁気抵抗効果における界面の影響(Interfacewith a top-gate configuration)申成權, ジーンタルン, 福間康裕, 井土 宏, 大谷義近, 深田 直樹, 石橋幸治, 小田俊理. 秋季第72回応用物理学会学術講演会. 2011.NIMS著者深田 直樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻 :2017-01-08 04:11:26 +0900 更新時刻 :2017-07-10 21:08:43 +0900