HOME > 口頭発表 > 書誌詳細 SiO2上に置かれた多層グラフェンの上面移動度と下面移動度の評価Y.Nukui, H. Goto, H. Tomori, Y. Toyota, Y. Ootuk, 塚越 一仁, A. Kanda. 2011年秋季第72回応用物理学会学術講演会. 2011.NIMS著者塚越 一仁Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 11:13:57 +0900更新時刻: 2017-07-10 21:11:04 +0900
