Self-aligned photolithography using backside exposure through metal patterns on β-Ga2O3 substrates
The 4th International Workshop on Gallium Oxide and Related Materials. 2022年10月23日-2022年10月27日.
NIMS著者
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作成時刻: 2022-11-02 03:25:17 +0900 更新時刻: 2022-11-02 03:25:17 +0900