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NIMS Awardシンポジウム2026

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電子照射によるシリコンの表面応力の緩和
(Surface stress relaxation induced by electron iradiation)

成島哲也, 北島正弘, 中村明子, 河辺隆也.
第50回表面科学講演大会. 2000年11月29日-2000年12月01日.

NIMS著者


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    作成時刻: 2022-09-05 11:03:46 +0900 更新時刻: 2022-09-05 11:03:46 +0900

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