HOME > 口頭発表 > 書誌詳細電子照射によるシリコンの表面応力の緩和(Surface stress relaxation induced by electron iradiation)成島哲也, 北島正弘, 中村明子, 河辺隆也. 第50回表面科学講演大会. 2000年11月29日-2000年12月01日.NIMS著者板倉 明子Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2022-09-05 11:03:46 +0900 更新時刻: 2022-09-05 11:03:46 +0900