HOME > 口頭発表 > 書誌詳細ナノホールレジストマスクを用いたNVセンター配列の作製Ⅱ岡田 拓真, 東又 格, 加賀美 理沙, 寺地 徳之, 小野田 忍, 山田 圭介, 春山 盛義, 稲葉 優文, 山野 颯, Priyadharshini Balasubramanian, Boris Naydenov, Liam P McGuinness, Fedor Jelezko, 大島 武, 品田 高宏, 川原田 洋, 加田 渉, 花泉 修, 磯谷 順一, 谷井 孝至. 第77回応用物理学会秋季学術講演会. 2016.NIMS著者寺地 徳之Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 11:22:29 +0900更新時刻: 2018-05-21 22:03:00 +0900