不純物イオンをドープしたシリコン量子ドットの合成と溶液プロセスによるP-N接合構築
(Rational Doping Strategy to Build the First Solution-Processed p-n Homojunction Architecture of Silicon Quantum Dots)
日本化学会 第105回春季年会 (2025). 2025年03月26日-2025年03月29日.
NIMS著者
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作成時刻: 2025-04-01 03:06:47 +0900 更新時刻: 2025-04-01 03:06:47 +0900