HOME > 口頭発表 > 書誌詳細ミストCVD法によるα-Cr2O3テンプレート上のα-(Al,Ga)2O3薄膜の成長(Growth of α-(Al,Ga)2O3 thin films on α-Cr2O3 templates by mist-CVD)神野 莉衣奈, 肖 世玉, 大島 孝仁, 岩本 敏, 村上 和仁, 今井 克宏, 冨田 崇弘. 2026年 第87回応用物理学会秋季学術講演会. 2026年09月08日-2026年09月11日.NIMS著者大島 孝仁Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2026-09-15 03:06:49 +0900 更新時刻: 2026-09-15 03:06:49 +0900