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スパッタリング法によって作製したTi-Ni形状記憶薄膜.
(Ti-Ni Shape Memory Films Formed by Sputtering.)

武井厚, 石田 章, 山下嗣人, 武井厚, 山下嗣人.
日本化学会. 1994年02月02日-1994年02月03日.

NIMS著者


    Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


      作成時刻: 2017-02-18 00:48:45 +0900 更新時刻: 2017-07-10 17:28:21 +0900

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