HOME > Presentation > Detail原子層堆積法を用いた薄膜形成プロセスにおける酸化剤の重要性(Importance of Oxidant in Atomic Layer Deposition for Thin Film Formation Process)女屋 崇. 特定非営利活動法人日本オゾン協会 第34回年次研究講演会. June 26, 2025-June 27, 2025. InvitedNIMS author(s)ONAYA, TakashiFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2025-07-08 03:08:14 +0900 Updated at: 2025-07-08 03:08:14 +0900