ALDチャンバー中での原子制御ドット層堆積に向けた真空均一広角スプレー法
(Uniform wide-angle spray technique in a vacuum towards atomically precise dot layer deposition in ALD chamber)
the 16th Atomic Layer Deposition Conference. 2016.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 03:54:01 +0900更新時刻: 2017-07-10 22:21:58 +0900