HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Fabrication Technique of Ferroelectric HfxZr1−xO2 Thin Films Using ALD-ZrO2 Nucleation LayersONAYA, Takashi. 244th ECS Meeting. 2023年10月08日-2023年10月12日. 招待講演NIMS著者女屋 崇Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2026-06-18 03:06:26 +0900 更新時刻: 2026-06-18 03:06:26 +0900