化学気相析出による高硬度で低ヤング率な炭化ケイ素系複合膜の作製
(Preparation of silicon carbide based composite films with high hardness and lowered young’s modulus by chemical vapor deposition)
日本セラミックス協会2023年年会. 2023年03月08日-2023年03月10日.
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作成時刻: 2023-10-27 03:13:54 +0900 更新時刻: 2023-10-27 03:13:54 +0900