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コンビナトリアル手法によるHfO2系酸化膜の電気特性評価

大毛利 健治, 知京 豊裕, Parhat Ahmet, ククルズニアック ドミトリー, 中島 清美, 長谷川顕, 田森妙, 鯉沼 秀臣, 山田 啓作.
「ゲート絶縁膜の現状と課題 〜 誘電率と界面 〜」. 2005.

NIMS著者


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    作成時刻 :2017-01-08 04:46:56 +0900 更新時刻 :2018-05-21 19:37:42 +0900

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