HOME > 口頭発表 > 書誌詳細コンビナトリアル手法によるHfO2系酸化膜の電気特性評価大毛利 健治, 知京 豊裕, Parhat Ahmet, ククルズニアック ドミトリー, 中島 清美, 長谷川顕, 田森妙, 鯉沼 秀臣, 山田 啓作. 「ゲート絶縁膜の現状と課題 〜 誘電率と界面 〜」. 2005年06月09日-2005年06月10日.NIMS著者知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 04:46:56 +0900 更新時刻: 2018-05-21 19:37:42 +0900
