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酸化過程におけるシリコン表面応力の研究
(Surface Stress in Silicon Oxde Layer.)
第10回 日本 MRS 学術シンポジウム. December 10, 1998-December 11, 1998.
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Created at: 2017-01-08 04:34:35 +0900 Updated at: 2017-07-10 17:51:53 +0900