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HfSiOxゲートAlGaN/GaN MOS-HEMTのゲート制御性
(Gate controllability of HfSiOx-gate AlGaN/GaN MOS-HEMT)

越智 亮太, 前田 瑛里香, 生田目 俊秀, 塩崎 宏司, 橋詰 保.
第81回応用物理学会秋季学術講演会. 2020年09月08日-2020年09月11日.

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    作成時刻: 2020-09-20 03:00:17 +0900更新時刻: 2020-09-20 03:00:17 +0900

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