HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Si/Ge系コアシェルナノワイヤの形成と位置制御ドーピング(Formation and site selective doping in Si/Ge and Ge/Si core-shell nanowires )深田 直樹. Theory, Simulation and Modelling of SiGe Nanostructures: from Na. 2013. 招待講演NIMS著者深田 直樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 11:17:26 +0900更新時刻: 2024-03-05 11:44:33 +0900