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Bi 原子細線をドーパント源とするSi 結晶中のBiδドーピング法: EXAFSによるドーピング機構解明
(Delta doping of Bi in Si crystal with use of Bi nanoline as a dopant source: Elucidation of doping mechanism by using EXAFS)

村田 晃一, 新田清文, 宇留賀朋哉, 寺田靖子, 日塔 光一, 坂田 修身, 三木 一司.
応用物理学会2014秋季講演会. 2014.

NIMS著者


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      作成時刻: 2017-01-08 03:46:38 +0900更新時刻: 2017-07-10 22:01:15 +0900

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