HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Ag/Ta2O5/Pt素子におけるフォーミングプロセスの活性化障壁測定(Activation Barrier Measurement of the Forming Process for an Ag/Ta2O5/Pt Device)棚橋直哉, 鶴岡 徹, 長谷川剛. 第78回応用物理学会 秋季学術講演会. 2017年09月05日-2017年09月08日.NIMS著者鶴岡 徹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-07-11 22:39:35 +0900更新時刻: 2018-06-05 14:10:47 +0900