HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Role of Oxygen in Hf-based High-k Gate Stacks on Vfb Shifts(Hf-酸化物ゲートスタックのVfbシフトへ及ぼす酸素の役割)NABATAME, Toshihide. Int. Conf. on Solid-State and Integ. Circuit Tech. (ICSICT-2010). 2010年11月01日-2010年11月04日. 招待講演NIMS著者生田目 俊秀Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2022-09-05 12:52:15 +0900更新時刻: 2024-03-05 11:43:03 +0900