パルススパッタリングにおける電子温度のアノード構成依存性
(Electron temperature evaluation of the plasma in pulsed magnetron sputtering under different anode configurations)
5th International Conference on Coatings on Glass. 2004.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-14 11:18:12 +0900更新時刻: 2017-07-10 19:00:53 +0900