HOME > 口頭発表 > 書誌詳細窒素同位体を用いたAlN薄膜の作製(Fabrication of AlN thin films using nitrogen isotope)大垣 武, 姚 永昭, 坂口 勲, 大橋 直樹, 羽田 肇, 北島 正弘, 松本 研司. 日本セラミックス協会2008年年会. 2008年03月20日-2008年03月22日.NIMS著者大垣 武坂口 勲大橋 直樹羽田 肇Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 10:57:29 +0900更新時刻: 2017-07-10 20:09:14 +0900