HOME > 口頭発表 > 書誌詳細ホログラフィック干渉計を用いた磁場中銅電析におけるCu2+濃度分布(In-situ observation of Cu2+ concentration distribution near electrode interface by holographic interferometric microscopy during Cu electrodeposition in magnetic field)齊藤貴樹, 西川 慶, 松島永佳, 上田幹人. 2017年電気化学会秋季大会. 2017.NIMS著者西川 慶Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻 :2017-08-26 22:32:34 +0900 更新時刻 :2018-06-05 14:11:55 +0900