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層状構造をもつ酸化物薄膜のMOCVD法による成長
(Oxide Thin Films with Layered Structure Grown by MOCVD)

T. Kaneko, K. Endo, P. Badica, N. Ikenaga, T. Moriguchi, Y. Takemata, T. Hondo, T. Takada, T. Endo, 有沢 俊一, H. Kezuka, K. Oohashi.
IUMRS-International Conference on Electronic Materials. 2012年09月23日-2012年09月28日.

NIMS著者

Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット

    作成時刻: 2017-02-14 11:15:48 +0900更新時刻: 2017-07-10 21:21:55 +0900

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