層状構造をもつ酸化物薄膜のMOCVD法による成長
(Oxide Thin Films with Layered Structure Grown by MOCVD)
| 著者 | T. Kaneko, K. Endo, P. Badica, N. Ikenaga, T. Moriguchi, Y. Takemata, T. Hondo, T. Takada, T. Endo, 有沢 俊一, H. Kezuka, K. Oohashi. |
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| 会議名 | IUMRS-International Conference on Electronic Materials |
| 発表年 | 2012 |
| 言語 | Japanese |