レーザーアブレーション法で生成されたシリコンナノワイヤ中への不純物ドーピング
(Formation process of silicon nanocrystal (nc-Si) dots in SiOx matrices by local laser annealing)
9th International Conference on Laser Ablation. 2007.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-14 10:53:39 +0900更新時刻: 2017-07-10 20:00:44 +0900