HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Electron microscopy study of precipitation behavior of Xe implanted Si3N4YOON-UK, Heo, TAKEGUCHI, Masaki, MITSUISHI, Kazutaka, HASEGAWA, Akira, NAKAYAMA, Yoshiko, FURUYA, Kazuo. 日本顕微鏡学会 第65回学術講演会. 2009年05月26日-2009年05月29日.NIMS著者竹口 雅樹三石 和貴中山 佳子Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 11:04:55 +0900 更新時刻: 2017-07-10 20:29:41 +0900
