Understanding of oxidant gas effect on crystal structure and ferroelectricity of atomic layer deposited HfxZr1−xO2 thin films using synchrotron X-ray analysis
37th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2024). 2024年11月12日-2024年11月15日. 招待講演
NIMS著者
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作成時刻: 2026-06-18 03:06:26 +0900 更新時刻: 2026-06-18 03:06:26 +0900